L-industrija tas-semikondutturi għandha rekwiżiti estremament għoljin għall-preċiżjoni tal-ipproċessar u l-indafa ambjentali, u l-ipproċessar bil-vakwu huwa rabta indispensabbli fil-manifattura tas-semikondutturi (bħal ittemprar tal-wejfer, sputtering, inċiżjoni u ippakkjar). F'tagħmir għall-ipproċessar tal-vakwu tas-semikondutturi, is-sistema tat-tisħin hija l-komponent ewlieni li jiddetermina l-kwalità tal-ipproċessar tal-wejfers tas-semikondutturi, u l-ħiters tal-iskartoċċ saru l-element ta 'tisħin preferut għat-tagħmir tal-ipproċessar tal-vakwu tas-semikondutturi minħabba l-preċiżjoni għolja tat-tisħin, il-prestazzjoni stabbli u l-istruttura kompatta tagħhom. L-applikazzjoni tal-ħiters tal-iskartoċċ f'tagħmir għall-ipproċessar tal-vakwu tas-semikondutturi mhux biss teħtieġ li tissodisfa r-rekwiżiti bażiċi tat-tisħin bil-vakwu iżda teħtieġ ukoll li tadatta għar-rekwiżiti ta '-preċiżjoni għolja, -ndafa għolja, u ta' stabbiltà-għoli tal-industrija tas-semikondutturi.
Tagħmir għall-ipproċessar tal-vakwu semikondutturi (bħal fran tal-ittemprar tal-vakwu, tagħmir ta' sputtering, u tagħmir tal-inċiżjoni) normalment jaħdem f'ambjenti ta' vakwu għoli (grad ta 'vakwu 'l fuq minn 10^-4 Pa) u ambjenti ta' -temperatura għolja (300-1200 grad), u s-sistema tat-tisħin għandha tiġi kkontrollata f'temperatura uniformi ta' ±50 grad. . Dan minħabba li l-prestazzjoni elettrika tal-wejfers tas-semikondutturi hija sensittiva ħafna għat-temperatura - anki differenzi ħfief fit-temperatura jistgħu jwasslu għal konċentrazzjoni irregolari ta 'doping, difetti tal-kristall, u problemi oħra, li jaffettwaw il-kwalità u r-rendiment taċ-ċipep tas-semikondutturi. Il-ħiters tal-iskrataċ jistgħu jissodisfaw dawn ir-rekwiżiti stretti minħabba l-prestazzjoni eċċellenti tagħhom ta 'kontroll tat-temperatura u l-karatteristiċi ta' tisħin uniformi.
Fil-fran tal-ittemprar bil-vakwu għal wejfers semikondutturi, ħiters tal-iskartoċċ huma l-komponent tat-tisħin tal-qalba. Il-proċess ta 'ttemprar bil-vakwu jeħtieġ li l-wejfer tas-semikondutturi jissaħħan sa temperatura speċifika (ġeneralment 600-1000 grad) f'ambjent ta' vakwu għoli- u jinżamm għal ċertu perjodu ta 'żmien biex jiġu eliminati d-difetti tal-kristall u tittejjeb il-prestazzjoni elettrika tal-wejfer. Il-ħiters tal-iskartoċċ użati f'dan ix-xenarju huma ġeneralment ħiters tal-kartuċċa tal-għant Inconel b'mili ta 'insulazzjoni MgO ta' purità għolja u densità għolja. Il-kisja ta 'Inconel għandha stabbiltà ta' temperatura għolja eċċellenti u reżistenza għall-korrużjoni, li tista 'tevita l-ossidazzjoni u t-tniġġis f'ambjenti ta' vakwu ta 'temperatura għolja-. Il-mili MgO ta 'densità għolja jiżgura trasferiment tas-sħana uniformi u prestazzjoni stabbli ta' insulazzjoni, u jipprevjeni sħana żejda lokali tal-wejfer.
It-tqassim tal-ħiters tal-iskartoċċ fil-fran tal-ittemprar bil-vakwu huwa wkoll preċiż ħafna. Skont l-esperjenza, il-ħiters tal-iskartoċċ huma installati fil-ħajt tal-forn, fil-qiegħ tal-forn, u fil-quċċata tal-forn b'mod dens u uniformi, u kull heater tal-iskartoċċ huwa mgħammar b'senser tat-temperatura indipendenti. Is-sistema ta 'kontroll tat-temperatura tuża algoritmu ta' kontroll tat-temperatura b'ħafna -żona biex taġġusta l-qawwa ta 'kull heater tal-iskartoċċ f'ħin reali, u tiżgura li l-uniformità tat-temperatura fil-kamra tal-forn tkun fi ħdan ± 0.5 grad. Barra minn hekk, il-ħiters tal-iskartoċċ huma installati b'distakk ta '5-10mm bejn xulxin biex tiġi evitata interferenza reċiproka tar-radjazzjoni tas-sħana u tiġi żgurata distribuzzjoni uniformi tas-sħana. It-tul u d-dijametru tal-ħiters tal-iskartoċċ huma personalizzati skont id-daqs tal-kamra tal-forn u d-daqs tal-wejfer tas-semikondutturi-għal tagħmir tal-ipproċessar tal-wejfer fuq skala kbira (bħal fran tal-wejfer ta '12-il pulzier), heaters tal-iskartoċċ itwal u eħxen jintużaw biex jiżguraw qawwa suffiċjenti tat-tisħin u tisħin uniformi.
F'tagħmir ta 'sputtering tas-semikondutturi, heaters tal-iskartoċċ jintużaw biex isaħħnu l-mira u s-sottostrat. Il-proċess ta 'sputtering jeħtieġ li l-mira u s-sottostrat jissaħħnu għal temperatura speċifika (ġeneralment 300-600 grad) f'ambjent ta' vakwu għoli biex tittejjeb l-adeżjoni tal-film sputtered u l-uniformità tal-ħxuna tal-film. Il-ħiters tal-iskartoċċ użati f'dan ix-xenarju huma ġeneralment ħiters tal-iskartoċċ tal-għant tal-istainless steel (316L) b'densità ta' qawwa moderata (5-7 W/cm²). Il-kisja ta 'l-istainless steel 316L għandha reżistenza tajba għall-korrużjoni u tista' tadatta għall-ambjent tal-gass inert (bħal argon) fit-tagħmir ta 'sputtering. Id-densità tal-qawwa moderata tiżgura tisħin rapidu filwaqt li tevita sħana żejda lokali tal-mira u s-sottostrat.
Il-ħiters tal-iskartoċċ f'tagħmir ta 'sputtering huma ġeneralment installati fid-detentur tal-mira u d-detentur tas-sottostrat, imwaħħla mill-qrib mal-mira u s-sottostrat biex itejbu l-effiċjenza tat-trasferiment tas-sħana. Il-parti taċ-ċomb-out tal-heater tal-iskartoċċ hija ssiġillata b'iżolaturi taċ-ċeramika reżistenti-temperatura-għoli u ċrieki tas-siġillar tal-metall biex jiżguraw l-issikkar tal-vakwu tal-kamra tal-isputtering u jipprevjenu t-tnixxija tal-gass inert. Barra minn hekk, il-ħiters tal-iskartoċċ huma mgħammra bi -apparat ta 'protezzjoni mit-temperatura-jekk it-temperatura taqbeż il-valur stabbilit, il-provvista tal-enerġija tinqata' fil-ħin biex tiġi evitata ħsara lill-mira, sottostrat, u tagħmir ta 'sputtering.
Ta 'min jinnota li l-ħiters tal-iskartoċċ użati fit-tagħmir tal-ipproċessar tal-vakwu tas-semikondutturi għandhom jissodisfaw ir-rekwiżiti ta' ndafa għolja- tal-industrija tas-semikondutturi. Il-wiċċ tal-għant għandu jkun illustrat u mnaddaf biex jiġi evitat trab, tbajja taż-żejt, u impuritajiet oħra li jaqgħu barra u jniġġsu l-wejfer tas-semikondutturi. Il-mili tal-insulazzjoni MgO għandu jkun ta 'purità għolja, ħieles minn impuritajiet ta' ħsara (bħal metalli tqal), biex tiġi evitata l-volatilizzazzjoni u t-tniġġis f'ambjenti vakwu ta '-temperatura għolja. Barra minn hekk, il-ħiters tal-iskartoċċ għandhom jgħaddu minn testijiet stretti tal-indafa qabel ma jitilqu mill-fabbrika biex jiżguraw li jissodisfaw l-istandards tal-industrija tas-semikondutturi.
Rekwiżit importanti ieħor huwa l-istabbiltà fit-tul-tal-heater tal-iskartoċċ. It-tagħmir tal-manifattura tas-semikondutturi normalment jopera kontinwament għal żmien twil (24 siegħa kuljum, 7 ijiem fil-ġimgħa), għalhekk il-heater tal-iskartoċċ għandu jkollu ħajja twila ta 'servizz (aktar minn 8000 siegħa) u prestazzjoni stabbli. Il-ħiters tal-iskartoċċ użati fit-tagħmir tal-ipproċessar tal-vakwu tas-semikondutturi huma ġeneralment magħmula minn materjali ta '-kwalità għolja u jgħaddu minn disinn u ttestjar strutturali rigoruż, li jistgħu jiżguraw tħaddim stabbli fit-tul-mingħajr sostituzzjoni frekwenti. Manutenzjoni u spezzjoni regolari tal-ħiters tal-iskartoċċ (bħat-tindif tal-wiċċ tal-għant, l-ittestjar tal-prestazzjoni tal-insulazzjoni) jistgħu jestendu aktar il-ħajja tas-servizz tagħhom u jiżguraw il-kontinwità tal-produzzjoni tas-semikondutturi.
Fil-qosor, il-ħiters tal-iskrataċ għandhom rwol insostitwibbli fit-tagħmir tal-ipproċessar tal-vakwu tas-semikondutturi, u l-prestazzjoni tagħhom tiddetermina direttament il-kwalità tal-ipproċessar u r-rendiment tal-wejfers tas-semikondutturi. Il--kontroll tat-temperatura ta 'preċiżjoni għolja, tisħin uniformi, prestazzjoni stabbli, u indafa għolja tal-ħiters tal-iskartoċċ jagħmluhom adattati għar-rekwiżiti stretti tal-industrija tas-semikondutturi. Tipi differenti ta 'tagħmir għall-ipproċessar tal-vakwu tas-semikondutturi (bħal fran ta' ttemprar, tagħmir ta 'sputtering) għandhom rekwiżiti differenti għal ħiters tal-iskartoċċ, u l-adattament professjonali u l-appoġġ tekniku jistgħu jgħinu lill-manifatturi tas-semikondutturi jagħżlu l-ħiters tal-iskartoċċ l-aktar adattati, jiżguraw it-tħaddim stabbli tat-tagħmir, u jtejbu l-kwalità tal-prodotti semikondutturi.
